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法国《回声报》观点版8月6日登出巴黎第一大学教授埃马纽埃尔孔博（Emmanuel Combe）的文章，其中指出，限制一个国家获取尖端技术，有时可能会产生与初衷完全相反的效果。这位法国学者以中国为例，探讨这一现象。如今，中国在芯片光刻机领域正开始慢慢地缩小与世界领先水平的差距。
孔博说，这场博弈将产生两大输家。一是欧洲，其遵循美方管制规则，将逐步流失中国市场占有率。二是美国，虽短期放缓中国技术发展，却倒逼中国自研高端技术、完善产业链。
这篇文章在开头提到，欧洲市值最高的科技公司、全球半导体设备巨头ASML，最近几天股价下跌了近10%。原因是，ASML核心产品之一DUV光刻机的垄断开始松动。
孔博认为，ASML并非一家普通企业。它几乎垄断了全球EUV（极紫外）光刻机市场——这种设备专门用来制造最先进的芯片；与此同时，它还占据了全球80%以上的DUV光刻机市场。
这种垄断地位，是三十多年研发投入的成果，也建立在一个独一无二的欧洲供应链ECO之上，例如德国蔡司（Zeiss）提供精密光学系统，德国通快（Trumpf）提供高端激光器。这些技术壁垒极高，因此，新竞争者的出现一直被认为几乎不可能。
然而，自2019年以来，在美国持续施压下，荷兰政府不得不禁止向中国出口EUV光刻机以及性能最先进的DUV光刻机。
孔博教授提到，由此引出了一个远远超越ASML个案的问题：限制一个国家获得尖端技术，究竟会削弱还是反而增强其创新动力？
由于没有办法获得最先进的设备，被制裁国家便无法生产最高端芯片。同时，由于无法进口设备，它也失去了在设备使用、维护过程中获得技术转移和经验积累的机会，因此难以沿着“经验曲线”逐步的提升自身技术水平、缩小差距。
他以冷战时期的苏联举例。当年，在巴黎统筹委员会（CoCom）的出口禁令下，苏联被禁止进口西方最先进的计算机。这个成立于1949年的机构，由美国主导制定盟国不得出口的敏感技术清单。
结果呢？苏联在电子工业上的技术落后越来越严重，并且始终未能真正追赶上西方。
中国虽然没有办法获得EUV光刻机，但仍能够最终靠增加DUV光刻机多重曝光（multiple patterning）的次数来制造先进芯片，只是良率会明显下降。
对于中国而言，它现在几乎能确定，其国内拥有一个规模庞大且无法被外国竞争者进入的市场。
过去，由于ASML能够自由进入中国市场，本土企业即使研发成功，也未必能找到足够客户，因此投资风险极高。如今情况不同了。
全球最强大的外国竞争者已经被挡在中国市场之外，本土企业面对的是一个“被锁定”的巨大国内需求市场。孔博教授认为，原本最令人担忧的销路问题因此大幅度降低，而这正是通常阻止企业进入资本密集型产业的最大障碍。
换句话说，出口限制实际上等于保护了一个新兴起的产业，只不过这种保护并非本国政府主动实施，而是由外国强加给它的。
他举例，经济学家瑞卡尤哈斯（Rka Juhsz）曾研究之后发现，拿破仑大时期，英国作为当时世界领先的纺纱机械制造国，被禁止向法国出口相关设备。
不料，那些受到英国竞争保护程度最高的法国地区，棉纺工业机械化速度反而远远快于其他地区。
孔博教授进一步评估，当然，短期来看，中国对DUV光刻机市场的挑战仍然十分有限。
预计今年仅会交付几台国产DUV光刻机，2027年也不过二十台左右。相比之下，仅2025年，ASML就交付了131台DUV设备。
首当其冲的是欧洲。欧洲本来并没有主动挑起这场冲突，却不得不接受美国制定的出口规则，限制本国企业向中国出售产品。跟着时间推移，欧洲企业最终将失去中国这一重要市场的一部分。
第二个输家则是美国。美国或许能够在短期内延缓中国技术追赶的速度，但与此同时，它也在客观上刺激了中国自主研发尖端技术的动力，加速了中国建立完整技术体系。
孔博教授总结道，如果未来中国成功突破光刻机技术瓶颈，那么，中国甚至可能会“感谢”特朗普：因为正是他的出口限制，迫使中国走上了自主创新之路。
